项目流程背景图 该半导体材料加工制造品牌为于苏北东北部，一般产出集成化线路IC芯片，日产生口含氟污水约800吨。犹豫本市低能耗的标准增长，改变除理设施设备难以达到氟化物产生口酸度不超过5mg/L的新必须，品牌投資1八百万元刚刚建立靠谱含氟污水除理系統。 废水处理方法含量及原因 生活污水一般种类于电源芯片制作业过程中中的刻蚀制作工艺程序和擦洗制作工艺程序，一般环境环境有害特性还包括： 氟铁离子溶度：300-800mg/L pH值：2- 包含一定量硅酸盐、磷酸二氢钠 少量巨资属如铜、镍等 外理施工工艺生产流程图 按照"预加工+耐腐蚀沉积+程度加工"组合公式流程： 控制池：匀衡水源发电量，設置pH线监控 第一反馈池：加药氢氧化物钙，有效控制pH至7-8，达成氟化钙沉淀物中 4级奠定池：奠定分割氟化钙工业废水 特殊反映池：加药系统氯化钙和聚合物氯化铝，进步骤消除多余氟阴阳离子 2次沉定池：2次沉定分离处理 砂滤机系统：弄掉悬浮物物 可溶性炭吸咐：祛除充分物和微量分析血本属 活性污泥解决解决软件系统：板框压滤缺水，活性污泥解决含水分率减至60%左右 既定结果 系统正常运作保持稳定后，出水出水饮用水质： 氟铁离子溶度：2.1-3.8mg/L pH值：6.5-7. SS<5mg/L 血本属含铁均压低检测限 完整需要满足《网上化工业水破坏物尾气排放物的标准》(GB39731-2020)请求，每一年的削减氟化物尾气排放物约180吨。