半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
工程项目图片背景
该的企业非常专业产出半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,焦化废水氟有机废气浓度较大且组成成分繁复。原来的外理工学艺郊果不平衡,氟化物排卸经常超预算。活动加盟2五百万元建成特地外理生活设施,构思外理特性500吨/天。
电镀废水组成及渠道
废水处理工艺重要来生產产品的清洗和尾气洗衣:
氟阴离子含量:1500-3500mg/L
含盐酸根铁离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等重金属化学元素
外理新工艺步奏
专门针对高溶度亮点,使用"与+三级奠定+膜整理"鑫霖环保:
化工污废水 提取池:归类提取有所不同氧化还原电位化工污废水
采和体现池:分时期污泥脱水氢腐蚀的钠和氢腐蚀的钙,操纵终究pH至7.5-8.
二沉池反响池:加药PAC和PAM增强学习发展成效
斜管奠定池:高质量固液剥离
多媒介筛选器:弄掉很小颗粒肥料
反侵入整体:深浅脱盐和除氟
废水精浓脱干系统的:抽滤脱干后废水土石方工程工程专业处治
优酷云监测整体整体:时时监管氟化合物酸度和pH值
最终能够效率
进行处理设计运作动态数据:
入水氟阴离子的平均氧化还原电位:2800mg/L
喷水氟铁离子质量浓度:3.2mg/L(差不多)
氟快速清理率:99.9%上面
水工业废水处理率:以达到65%
操作系统半电气自动化系数高,保持废水解决解决代价有效降低30%,年环保再生资源回收氟化钙副设备约400吨。