某半导体技术生产制造中小企业因晶圆清洁环节所产生含氨废液，用水量200吨/天。废液中除化学需氧量外还有氟化物和轻微天价属，清理一定难度大。本省直接排放规范规范请求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣材料及收入 晶圆拆洗废水处理方法（最主要源于）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作污废水 ：含微量分析铜、镍等天价属，pH值变化大 CMP磨研污废水 ：含硅顆粒及化学需氧量 解决艺过程 用于"药剂学析出+膜脱离+折点氯化"组合起来方法： 预整理 ：添加CaCl2除氟，掌握pH在7.5-8. 反渗透膜软件 ：祛除0.01μm上文小粒物 反渗透设备法精提 ：将氟化物浓缩咖啡至1000mg/L不低于 折点氯化 ：准确有效控制氯添加量，将氯离子转化成为氦气 阴阳离子对调 ：维护天价属合格 结果是感觉 氯离子稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属纯度不低于查测限 水回收利用率达75% 飞灰导致量减掉40%